Intel первой в мире начала массовый выпуск чипов по новой технологии литографии
Как сообщила сама компания Intel Foundry — она стала первым производителем чипов, который наладил массовый выпуск и поставку логических процессоров с использованием технологии литографии High NA EUV от компании ASML. Это важный шаг к коммерческому внедрению технологии производства чипов следующего поколения.
Что именно выпустили
Речь идет о части процессоров Intel Core Ultra Series 3, известных под кодовым названием Panther Lake, которые производят по технологическому процессу Intel 18A. По словам Intel, отдельные слои чипов на этом техпроцессе теперь прошли двойную сертификацию на платформе High NA EUV производства ASML на заводе компании в Орегоне, а продукция уже поставляется клиентам с показателями выхода годных изделий, сопоставимыми с существующей платформой NXE.
Само объявление означает переход технологии High NA EUV из стадии исследований и ранних испытаний в реальное серийное производство. В Intel и ASML пояснили, что новую технологию пока применяют лишь для отдельных слоев чипов — так удобнее собирать данные о производственном процессе и дорабатывать настройку оборудования, его бесперебойную работу и внедрение в производство, прежде чем расширять использование технологии на будущие техпроцессы.
Что такое High NA EUV
High NA EUV — это следующий шаг в развитии EUV-литографии (литографии в экстремальном ультрафиолете), метода, которым сегодня печатают самые мелкие элементы современных чипов. Новая версия технологии дает более высокое разрешение и лучший контроль процесса при формировании еще более мелких деталей микросхемы. Ожидается, что это поможет производителям полупроводников делать чипы плотнее и сложнее, поддерживая дальнейший прогресс в вычислениях и искусственном интеллекте.
В ASML отмечают, что нынешнее внедрение технологии опирается на десятилетия сотрудничества с Intel в области развития полупроводникового производства. Новая веха стала логичным продолжением событий 2024 года, когда Intel установила первую в отрасли коммерческую систему High NA EUV на своей исследовательской площадке в Хиллсборо, Орегон. Позже компания первой в мире установила и сертифицировала систему ASML второго поколения TWINSCAN EXE:5200B — она отличается более высокой производительностью, улучшенной точностью совмещения слоёв и усовершенствованным источником света.
Процессоры Panther Lake производят по техпроцессу Intel 18A, а технологию High NA EUV применяют только для формирования отдельных слоев этих чипов. По словам Intel, такой подход позволяет накапливать производственный опыт, не теряя при этом в показателях уже отлаженных платформ.
«С увеличенным разрешением и улучшенным контролем процесса внедрение High NA EUV знаменует собой значительный шаг вперед в полупроводниковой литографии, — говорит президент и генеральный директор ASML Кристоф Фуке. — Мы гордимся тем, что помогаем создавать более мелкую и плотную печать элементов, которая ускорит развитие искусственного интеллекта и других новых технологий».
В обеих компаниях подчеркивают, что опыт, полученный уже в реальном производстве, поможет доработать настройку оборудования, повысить его бесперебойную работу и усовершенствовать сами производственные процессы — а это, в свою очередь, откроет дорогу к более широкому применению технологии в будущих поколениях полупроводникового производства.
В Intel называют это важным этапом на пути к масштабному внедрению High NA EUV в коммерческое производство чипов, при этом сохраняя гибкость для будущих технологических процессов.
Путь к серийному производству
По данным Intel, сертификация High NA EUV на отдельных слоях продукции на техпроцессе 18A позволяет компании продолжать серийный выпуск чипов, одновременно оценивая, как эта технология сможет в будущем обеспечить более высокую производительность, большую плотность транзисторов и большую гибкость производства на следующих техпроцессах.
С запуском массового производства Panther Lake на основе High NA EUV Intel становится первой компанией, которая наладила коммерческий крупносерийный выпуск логических чипов с использованием этой технологии — а значит, первой на практике показала, как литография следующего поколения переходит из стадии разработки в масштабное производство микросхем.
